Název: |
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o. |
NACE: |
261100 |
Ulice, č.p./č.o.: |
1. máje 2230 |
PSČ, Obec: |
756 61 Rožnov pod Radhoštěm |
Adresní místo (ADM): |
17220742
|
tuhé znečišťující látky (TZL) |
0,010 |
oxidy dusíku vyjádřené jako oxid dusičitý (NOx) |
0,106 |
oxid uhelnatý (CO) |
0,001 |
organické látky vyjádřené jako celkový organický uhlík (TOC) |
0,022 |
těkavé organické látky (VOC) |
1,565 |
amoniak a soli amonné vyjádřené jako amoniak (NH3) |
0,007 |
fluor a jeho anorganické sloučeniny vyjádřené jako fluorovodík (HF) |
0,001300 |
silné anorganické kyseliny (kromě HCl) vyjádřené jako H+ |
0,013000 |
chlor a plynné anorganické sloučeniny chloru (kromě chlorkyanu) vyjádřené jako chlorovodík (HCl) |
0,003500 |
Celkový příkon provozovny [MW]: |
4,5 |
nafta |
11.b. Stacionární zdroje jinde nezařazené (vyjma spalovacích zdrojů - nepřímých ohřevů), jejichž roční emise překračují hodnoty uvedené v kódech 11.1. až 11.9. |
1.2.a. Spalování paliv v pístových spalovacích motorech o celkovém jmenovitém tepelném příkonu od 0,3 MW do 5 MW včetně |
2.6. Čistírny odpadních vod, které jsou primárně určeny k čištění vod z průmyslových provozoven a provozů technologií produkujících odpadní vody v množství větším než 50 m3za den |
4.12.a. Povrchová úprava kovů a plastů a jiných nekovových předmětů s celkovou projektovanou kapacitou objemu lázně do 30 m3 včetně (vyjma oplachu), procesy bez použití lázní |
Název: |
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o. |
NACE: |
261100 |
Ulice, č.p./č.o.: |
1. máje 2230 |
PSČ, Obec: |
756 61 Rožnov pod Radhoštěm |
Adresní místo (ADM): |
17220742
|
tuhé znečišťující látky (TZL) |
0,006 |
oxidy dusíku vyjádřené jako oxid dusičitý (NOx) |
0,062 |
oxid uhelnatý (CO) |
0,011 |
těkavé organické látky (VOC) |
1,717 |
amoniak a soli amonné vyjádřené jako amoniak (NH3) |
0,007 |
fluor a jeho anorganické sloučeniny vyjádřené jako fluorovodík (HF) |
0,002000 |
silné anorganické kyseliny (kromě HCl) vyjádřené jako H+ |
0,013000 |
chlor a plynné anorganické sloučeniny chloru (kromě chlorkyanu) vyjádřené jako chlorovodík (HCl) |
0,003000 |
Celkový příkon provozovny [MW]: |
4,5 |
nafta |
11.b. Stacionární zdroje jinde nezařazené (vyjma spalovacích zdrojů - nepřímých ohřevů), jejichž roční emise překračují hodnoty uvedené v kódech 11.1. až 11.9. |
1.2.a. Spalování paliv v pístových spalovacích motorech o celkovém jmenovitém tepelném příkonu od 0,3 MW do 5 MW včetně |
4.12.a. Povrchová úprava kovů a plastů a jiných nekovových předmětů s celkovou projektovanou kapacitou objemu lázně do 30 m3 včetně (vyjma oplachu), procesy bez použití lázní |